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上海敦祥工貿(mào)有限公司與您相約重慶!2025第二屆全國高純氧化鋁粉體制備技術(shù)及應用交流大會

中國粉體網(wǎng)訊 高純氧化鋁粉體具有普通氧化鋁無法比擬的光、電、磁、熱和機械性能,是配套航天航空、半導體、核能、新能源、冶金、生物醫(yī)療、照明、機械、化工等眾多工程領(lǐng)域的重要新材料,是現(xiàn)代化工附加值最高、應用最廣泛的高端材料之一。在此背景下,中國粉體網(wǎng)將在中國·重慶舉辦2025第二屆全國高純氧化鋁粉體制備技術(shù)及應用交流大會,大會旨在搭建高純氧化鋁上下游技術(shù)交流、信息互通的溝通平臺,促進我國高純氧化鋁行業(yè)技術(shù)與產(chǎn)業(yè)發(fā)展突破。


2025第二屆全國高純氧化鋁粉體制備技術(shù)及應用交流大會組委會獲悉,本屆會議將于2025年9月19日中國重慶舉辦。上海敦祥工貿(mào)有限公司作為參展單位邀請您共同出席。


作為最常見的氧化物材料之一,氧化鋁具備多種優(yōu)良性能,包括良好的機械性能、熱性能、結(jié)構(gòu)多樣性等,使其在陶瓷、耐火材料、研磨拋光、導熱填料等諸多領(lǐng)域中有著不錯的應用性和前景。不過在實際的工業(yè)生產(chǎn)中,即使同為氧化鋁粉體,不同的生產(chǎn)廠家、不同的生產(chǎn)工藝及不同的生產(chǎn)設(shè)備所生產(chǎn)出的產(chǎn)品,其物理、化學性能指標也不盡相同,甚至會有較大差別。



氧化鋁應用


以氧化鋁陶瓷制品的生產(chǎn)為例,制備高分散性、高穩(wěn)定性和高固含量的超細氧化鋁粉體漿料關(guān)乎著產(chǎn)品的加工性能甚至是使用性能,是獲得高質(zhì)量坯體的關(guān)鍵,而氧化鋁粉體的粒度大小、分布以及分散穩(wěn)定性又會對漿料的質(zhì)量產(chǎn)生較大影響。若氧化鋁粉體的粒徑越小,則表面積與表面能則較高,能夠為陶瓷的致密化提供更大的驅(qū)動力,從而提高成品的致密度;但在另一方面,粉體的粒徑越小,粉體顆粒在溶劑中的分散穩(wěn)定性就越差,越容易發(fā)生團聚或沉降,往往需要采用更多的分散劑、粘結(jié)劑等添加劑包覆在顆粒表面,不僅會使?jié){料流動性變差,影響后續(xù)排膠過程,還會導致陶瓷燒結(jié)收縮率增加,燒結(jié)體密度減小。由此可見,在氧化鋁粉末制品研發(fā)中,對氧化鋁粉末的粒徑及其分布和在液體中的分散穩(wěn)定性(Zeta電位)等重要指標做出正確表征,并把握二者平衡至關(guān)重要。


為更好地指導粉體研發(fā)人員進行精確的顆粒檢測,提高產(chǎn)品性能和質(zhì)量管理,大塚電子(蘇州)有限公司推出的ELSENEO系列ZETA電位·粒徑測試系統(tǒng)采用了目前學術(shù)界和產(chǎn)業(yè)界公認的成熟可靠的粒度檢測技術(shù)——動態(tài)光散射(DLS)技術(shù),并使用高靈敏度的 APD雪崩光電二極管,通過觀測散射光隨時間的波動性得到顆粒布朗運動的速度,能夠連續(xù)、精確地從稀薄到濃厚溶液(~40% )中獲得顆粒的粒度和粒度分布,可測粒度范圍廣至0.1 ~ 10,000nm



ZETA電位·粒徑測試系統(tǒng)·ELSENEOSE




動態(tài)光散射法技術(shù)原理


而通過采用電泳光散射法,并結(jié)合電滲透測量和繪圖分析,ELSENEO系列不僅能夠?qū)㈩w粒的電泳速度測量問題轉(zhuǎn)化為散射光頻移測量問題,精確測定溶液的Zeta電位,用于粉體的分散穩(wěn)定性的表征,還可以用于確認測量數(shù)據(jù)內(nèi)ZETA電位分布的再現(xiàn)性及判定雜質(zhì)的波峰,在測量速度、統(tǒng)計精度和重現(xiàn)性方面都具有突出優(yōu)勢。


電泳光散射法測定原理



充分考慮電滲流后進行樣品池內(nèi)泳動速度的解析


電滲透流應用于多成分(雜質(zhì))解析


即將于4月23-25日在寧波舉辦的“2024年全國氧化鋁粉體與制品創(chuàng)新發(fā)展論壇(第八屆)”上,上海敦祥工貿(mào)有限公司作為本次會議贊助商及大塚電子的代理商,邀請了大塚電子(蘇州)有限公司的技術(shù)統(tǒng)括橋田紳乃介先生現(xiàn)場分享報告《氧化鋁粉末制品研發(fā)和品控中的粒徑·ζ電位測定》,屆時他將結(jié)合詳細的事例深入介紹并在展臺展出ELSENEO系列ZETA電位·粒徑測試系統(tǒng)。如您對該報告及技術(shù)感興趣,了解會議詳情并報名,到會議現(xiàn)場及展臺與大塚電子進行面對面交流吧!


報告人介紹



橋田紳乃介,碩士畢業(yè)于日本兵庫縣立大學研究生院研究分析化學專業(yè)。2010年開始在大塚電子株式會社測量分析設(shè)備開發(fā)部門從事基于激光的納米粒子評價設(shè)備的分析業(yè)務和應用實例制作業(yè)務。負責編寫介紹動態(tài)光散射法和電泳光散射法測定原理和應用實例的技術(shù)書籍,每年舉辦技術(shù)研討會。


關(guān)于大塚電子




作為世界500強企業(yè)之一的大冢集團,其旗下日本大塚電子集團的子公司大塚電子(蘇州)有限公司以“多樣性”、“創(chuàng)新性”和“全球化”作為基本方針,并融合了自公司成立以來積累的核心技術(shù),為用于光學特性測試的測量儀器、分析儀器提供從銷售到售后的全面服務支持,包括偏光片測試儀、位相差測試儀、液晶Cellgap測試儀、ColorFilter色度機、膜厚測試儀、透過率測試儀、反射率測試儀、納米粒度儀等,可以滿足納米技術(shù)、高分子化學、新材料、食品、半導體和醫(yī)藥等諸多領(lǐng)域從研發(fā)到質(zhì)量管理各方面的需求,擁有精度高、測試快、操作簡便、市場占有率高、客戶群體廣的特點及優(yōu)勢。



會務組

聯(lián)系人:李先生

電話:15563675367

郵箱:3261140559@qq.com





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