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碳納米管分散液研磨分散機，碳納米管高速研磨分散機，碳納米管進口研磨分散機，碳納米管分散液管線式分散機，IKN高速分散機，不銹鋼高速分散機

碳納米管、碳納米管分散劑和液體介質(zhì)混合均勻后，經(jīng)過特定的分散設備和分散工藝，制備出碳納米管漿料。漿料產(chǎn)品具有高含量、高流動性的特點，是經(jīng)濟型的分散產(chǎn)品。
   

碳納米管漿料經(jīng)過離心沉降處理，進一步提高分散品質(zhì)，得到碳納米管分散液。分散液產(chǎn)品具有高分散性、高穩(wěn)定性的特點，是精致型的分散產(chǎn)品。

碳納米管分散液由多壁碳納米管、碳納米管分散劑、液體介質(zhì)等三種成分組成，經(jīng)過特定的機械研磨設備和分散工藝，首先制備出碳納米管漿料。碳納米管漿料再經(jīng)過14000轉/秒、0.5小時高速剪切處理，進一步提高分散品質(zhì)，得到高分散性、高穩(wěn)定性的碳納米管分散液，是精致型的分散產(chǎn)品。

分散是至少兩種互不相溶或者難以相溶且不發(fā)生化學反應的物質(zhì)的混合過程。工業(yè)分散的目標是在連續(xù)相中實現(xiàn)“令人滿意的”精細分布。 

眾所周知納米氧化物極易產(chǎn)生自身的團聚，使得應有的性能難以充分發(fā)揮。納米材料的分散顆粒細化到納米級后，其表面積累了大量的正、負電荷，納米顆粒的形狀極不規(guī)則，這樣造成了電荷的聚集。納米顆粒表面原子比例隨著納米粒徑的降低而迅速增加，當降至1nm時，表面原子比例高達90%，原子幾乎全部集中到顆粒表面，處于高度活化狀態(tài)，導致表面原子配位數(shù)不足和高表面能。納米顆粒具有很高的化學活性，表現(xiàn)出強烈的表面效應，很容易發(fā)生聚集而達到穩(wěn)定狀態(tài)，從而團聚發(fā)生

納米材料的分散 目前，國內(nèi)產(chǎn)品質(zhì)量較好的企業(yè)使用的分散方式主要采取一步法的高速剪切分散，能基本滿足用戶的需要。由于我們行業(yè)的特點，有相當多的中小企業(yè)分散設備十分落后，分散時根本形成不了剪切力，只是一種攪拌，氣相二氧化硅在樹脂中根本形成不了網(wǎng)狀結構，從而無法發(fā)揮材料的性能。造成這種情況的主要原因① 尚未對分散的作用有正確的認識．許多生產(chǎn)商并未意識到分散的重要性；② 不知道對***終產(chǎn)品的品質(zhì)如何評價，

分散方式 ：研磨分散，沙磨分散，球磨分散等

研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤。可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） IKN研磨分散機可以高速研磨，分散，乳化，均質(zhì)等功能，設備轉速可達14000rpm，是目前國產(chǎn)設備轉速的4-5倍。

從設備角度來分析，影響研磨分散機效果因素有以下幾點：

1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結構（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設備的期限就不能再好了。）

線速度的計算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉子直徑）X 轉速 RPM  /   60

 所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素，超高速分散均質(zhì)分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

CMD2000系列研磨分散機設備選型表
 

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到**允許量的10%

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13795214885  賈清清