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UV光解除臭設(shè)備主要有3部分組成，一是前置過(guò)濾網(wǎng)
UV光解除臭設(shè)備主要有3部分組成，二是特質(zhì)催化劑。
UV光解除臭設(shè)備主要有3部分組成，三是UV紫外線燈管
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發(fā)布日期：2020/02/25除臭系統(tǒng)設(shè)計(jì)參考標(biāo)準(zhǔn)序號(hào)相關(guān)參考標(biāo)準(zhǔn) 標(biāo)準(zhǔn)代號(hào)備注1《大氣污染物綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》GB16297-19962《惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》GB14554-933《城鎮(zhèn)污水處
2021-03-19
一：應(yīng)用領(lǐng)域：1．醫(yī)藥、農(nóng)藥化工廢水；2．垃圾填埋廠滲濾液；3．化肥生產(chǎn)廢水；4．焦化行業(yè)廢水；5．稀土冶煉廢水；6．生活污水等。二：設(shè)計(jì)原理說(shuō)明 氨氮在廢水中主要以銨離子（NH4+）和游離氨（NH3
2021-11-24
離子除臭工藝系統(tǒng)要求采用離子法常溫氧化除臭工藝設(shè)備工藝流程如下： 臭氣收集?臭氣輸送?過(guò)濾裝置?離子-光解一體化發(fā)生反應(yīng)系統(tǒng)裝置?離心風(fēng)機(jī)?達(dá)標(biāo)后通過(guò)管路排放。 1）、離子除臭工藝是一種安全可靠的處理
2021-11-24
廢氣凈化設(shè)備利用高頻高壓靜電的特殊脈沖放電方式（發(fā)射裝置每秒鐘發(fā)射上千億個(gè)高能離子），產(chǎn)生高密度的高能活性氧（介于氧分子和臭氧之間的一種過(guò)渡態(tài)氧），迅速與污染物分子碰撞，激活有機(jī)分子，并直接將其破壞；
2021-11-24
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