功率(kw):
.重量(kg):
.規(guī)格外形(長*寬*高):
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真空鍍膜設備(CVD/PVD)主要用于薄膜沉積工藝,是一連串涉及原子的吸附,吸附原子在表面的擴散及在適當?shù)奈恢孟戮劢Y,在晶圓上沉積一層待處理的薄膜的過程。
暫無數(shù)據(jù)!
寧波恒普真空股份有限公司擬首次公開發(fā)行股票接受上市輔導公告以下為恒普真空股份有限公司擬首次公開發(fā)行股票接受上市輔導的公告關于公司基本情況備案表