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大口徑動態(tài)plasma輔助法卷對卷式石墨烯制備設(shè)備
大口徑動態(tài)plasma輔助法卷對卷式石墨烯制備設(shè)備

參考價格

面議

型號

RTR-150 卷對卷

品牌

貝意克

產(chǎn)地

安徽

樣本

暫無
安徽貝意克設(shè)備技術(shù)有限公司

金牌會員

|

第13年

|

生產(chǎn)商

工商已核實

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核心參數(shù)
  • 非金屬電熱元件:

    其他
  • 金屬電熱元件:

    鐵鉻鋁絲
  • 燒結(jié)氣氛:

    真空
  • 溫控精度:

    ±1℃
  • 最高溫度:

    1200℃
  • 額定溫度:

    1100℃
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一、設(shè)備簡介:

該設(shè)備為我司研發(fā)用于材料連續(xù)生長的專用設(shè)備,此款設(shè)備是快速冷卻卷對卷等離子體增強CVD連續(xù)生長爐,它由高溫生長腔體,質(zhì)量流量計氣路系統(tǒng),真空機組,RF射頻電源模塊,石英管,冷卻裝置,收放卷的密封裝置,自動化控制系統(tǒng)組成,兩端分別安裝有進料進氣真空腔室和出料排氣真空腔室(即收放卷的密封裝置),收放密封裝置內(nèi)分別對應(yīng)安裝有放卷滾輪和收卷滾輪,所輸出料排氣腔體與爐體之間安裝有冷卻裝置。相對于現(xiàn)有技術(shù)具有快速冷卻、連續(xù)生長的優(yōu)點。

 

二、技術(shù)參數(shù)

1.加熱系統(tǒng)

使用溫度

1200℃

使用溫度

≤1100℃

爐管尺寸

Φ150mm(爐管直徑可根據(jù)實際需要定制。)

爐膛材料

氧化鋁、高溫纖維制品

熱電偶類型

K型熱電偶

控溫精度

±1℃

控溫方式

30段可編程控溫,PID參數(shù)自整定,操作界面為7”工控電腦,內(nèi)置PLC控制程序。

加熱長度

200+200+200mm

加熱原件

電阻絲

供電電源

單相,220V,50Hz


2、PE系統(tǒng)

功率輸出范圍

0W~1000W

反射功率

≤200W

射頻輸出接口

50 Ω, N-type, female

功率穩(wěn)定度

≤5W

諧波分量

≤-50dbc

供電電壓

單相交流(187V-253V) 頻率50/60HZ

整機效率

>=70%

功率因素

>=90%

冷卻方式

強制風冷

 

3、三路質(zhì)子流量控制系統(tǒng)

連接頭類型

雙卡套不銹鋼接頭

標準量程(N2)

200sccm,500sccm、1000sccm(可根據(jù)用戶要求定制)

準確度

±1.5%F.S

線性

±1%F.S

重復(fù)精度

±0.2%F.S

響應(yīng)時間

氣特性:1~4 Sec,電特性:10 Sec

工作壓差范圍

0.1~0.5 MPa

壓力

≤3MPa

接口

Φ6,1/4''

顯示

4位數(shù)字顯示

工作環(huán)境溫度

5~45高純氣體

壓力真空表

-0.1~0.15 MPa, 0.01 MPa/格

截止閥

Φ6

內(nèi)外雙拋不銹鋼管

Φ6

4、低真空機組

空氣相對濕度

≤85%

工作環(huán)境

5℃~40℃

工作電電壓

380V

抽氣速率

32m3/h

極限真空

5X10-1Pa(空載冷態(tài))

工作壓力范圍

1.01325X105~1.33X10-2Pa

進氣口口徑

KF40

排氣口口徑

KF40

連接方式

采用波紋管,手動擋板閥與波紋管相連


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10分

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