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面議型號(hào)
氧化亞硅真空蒸餾爐品牌
湖南烯瑞產(chǎn)地
湖南樣本
暫無(wú)金屬電熱元件：
其他燒結(jié)氣氛：
真空溫控精度：
-最高溫度：
-額定溫度：
-非金屬電熱元件：
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氧化亞硅真空蒸餾爐
設(shè)備用途：
氧化亞硅氣相沉積包覆爐，是利用真空蒸鍍法將粉碎后的所得元素?fù)诫s金屬硅與二氧化硅通過(guò)真空蒸鍍工藝，制得元素?fù)诫s氧化亞硅。
設(shè)備特點(diǎn)：
1、本公司自行設(shè)計(jì)生產(chǎn)的氧化亞硅氣相沉積包覆爐有兩種加熱方式（感應(yīng)加熱、電阻加熱和中頻感應(yīng)加熱），內(nèi)部各溫區(qū)溫差 在±5℃以?xún)?nèi)，能有效保證物料在內(nèi)腔內(nèi)的反應(yīng)溫度均勻。加熱端溫度≤1400℃，收集區(qū)溫度≤900℃。能充分滿(mǎn)足客戶(hù)用于氧化亞硅等可氣相沉積材料的燒結(jié)工藝。
2、設(shè)備采用熱電偶接觸式測(cè)溫控溫精度高，高溫真空度好，物料收集率高，具備物料烘干、燒結(jié)、收集于一體等特點(diǎn)，其物料反應(yīng)充分、收集率高等特點(diǎn)。
3、真空采用三級(jí)真空機(jī)組，油擴(kuò)散泵+羅茨泵+機(jī)械泵+真空閥門(mén)，以及我公司自行生產(chǎn)設(shè)計(jì)的真空過(guò)濾系統(tǒng)組成，具有真空度高，設(shè)備能在高溫、高真空環(huán)境中長(zhǎng)期使用。
產(chǎn)品介紹：
爐型結(jié)構(gòu) | 臥式 | ||
恒溫區(qū)尺寸（mm）（可按客戶(hù)需求定制） | 7500mm*600mm | 600mm*800mm | 700mm*1000mm |
爐體 | 由內(nèi)外雙層水冷結(jié)構(gòu)，與冷卻水接觸部分采用 304 不銹鋼制作，有效防止?fàn)t體長(zhǎng)時(shí)間使用漏氣現(xiàn)象 | ||
升華系統(tǒng) | 由加熱區(qū)和收集區(qū)組成，加熱區(qū)由感應(yīng)線圈、重質(zhì)剛玉、石墨硬鉆、等靜壓石墨組成，收集區(qū)由 310S不銹鋼及保溫層組成 | ||
溫控系統(tǒng)） | 采用 PLC觸屏集中控制方式，自動(dòng)化控制，帶網(wǎng)口，可實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程控制 | ||
加熱系統(tǒng) | 采用感應(yīng)加熱，電源采用GBT 節(jié)能型電源，噪音小，比傳統(tǒng)晶聞管電源節(jié)能 15%左右 | ||
真空系統(tǒng) | 由多級(jí)真空泵、真空閥，壓力控制器及管路組成 | ||
冷卻系統(tǒng) | 配置閉式冷卻系統(tǒng)，內(nèi)循環(huán)用去離子水，不會(huì)造成設(shè)備管路結(jié)垢，內(nèi)循環(huán)水損失小，外循環(huán)用自來(lái)水自動(dòng)補(bǔ)水，風(fēng)機(jī)自啟動(dòng)散熱，散熱效果好，集成環(huán)保，占地面積小等特點(diǎn) | ||
設(shè)備由升華系統(tǒng)、收集系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、機(jī)械系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)組成 | |||
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