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THERMAL NIL 桌面式納米熱壓印機
產(chǎn)品描述
NIR-MFD-S-SM-2 NILT CNI 實驗用納米熱壓印機是專為實驗室和研發(fā)機構(gòu)設(shè)計和開發(fā)的簡單易用、性能穩(wěn)定的研發(fā)型設(shè)備，用戶可以通過CNI設(shè)備高效、低成本地實現(xiàn)高精度的納米熱壓工藝，許多知名的研發(fā)機構(gòu)均購買了CNI的設(shè)備。NILT CNI熱壓設(shè)備，
產(chǎn)品特點
占地小、操作簡便
可實現(xiàn)高質(zhì)量的圖形復(fù)制
可實現(xiàn)納米熱壓設(shè)備的一切功能，而無需昂貴的工藝設(shè)備。
應(yīng)用領(lǐng)域
在硅片上制作納米級光柵
壓印易碎的材料（例如III-V族材料）
微結(jié)構(gòu)加工
制作壓印印章
保護母版的適用壽命
熱壓高深寬比結(jié)構(gòu)圖形
THERMAL NIL 主要性能指標：
集成控溫卡盤，可對溫度進行測量、控制壓印程序可進行編程（溫度、壓力、時間）可適用于100mm（4 英寸以下）所有尺寸和形狀的壓印模板。可適用于Silicon， Quartz， Nickel and Polymer materials壓印程序可進行編程適用所有熱壓印材料設(shè)備可用于復(fù)制壓印母板壓印溫度可達200 攝氏度壓力范圍：1‐10 bar壓印精度：40nm 或更好 (可完成工藝驗收)將模板加熱和溫度測量集成與壓印載盤上載盤適用于易碎襯底快速升溫，快速降溫，擁有**技術(shù)的卡盤設(shè)計，可保證快速升溫、降溫并保持良好的溫度均勻性。20℃‐130℃‐70℃少于8 分鐘提供COC 有機聚合物中間層軟膜（***的母板復(fù)制工藝），耗材及工藝培訓(xùn)提供壓印相關(guān)材料提供工藝培訓(xùn)和支持
壓印實例
NIL TECHNOLOGY ApS (NILT)高分子聚合物中間層壓印技術(shù)可以實現(xiàn)納米壓印/熱壓印非平面化的壓印，同時高分子聚合物中間層的熱塑彈性材料實現(xiàn)納米結(jié)構(gòu)的轉(zhuǎn)移和復(fù)制。可保護昂貴的母板因多次轉(zhuǎn)印而損壞，同時用于母板的復(fù)制。 | ||
NIL TECHNOLOGY ApS (NILT) 部分應(yīng)用實例：仿生應(yīng)用用于制作昆蟲眼部六角結(jié)構(gòu) 微型注射針頭結(jié)構(gòu) |
方形結(jié)構(gòu)陣列500nm
Distributed feedback laser array (DFB）分布式反饋激光器，240nm光柵結(jié)構(gòu)
Demonstration of imprint on Indium Phosphide (InP)磷化銦Protrusion height突出高度：112 nm 納米
訂購型號：
CNI-V2.1桌面式納米熱壓印機參數(shù)：熱零點高達240攝氏度，UV NIL@365nm，壓印壓力:0.3至11Bar，真空壓?。?/span>1mbar），印章和基板尺寸：高達200 mm
暫無數(shù)據(jù)！
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