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原理：

等離子體等離子體分析飛行時間質譜儀是一個全新的儀器，它結合了GD等離子體的濺射速度和飛行時間質譜的靈敏度，實現(xiàn)了高分辨率和高靈敏度條件下固體材料的快速化學深度剖析。

重點應用領域：

摻雜分析（半導體、光電子、太陽能光伏、傳感器、固態(tài)光源）

表面和整體污染鑒定（PVD鍍層、摩擦層、）

腐蝕科學和技術（示蹤物、標記監(jiān)測、同位素分析）

界面監(jiān)測

參數(shù)：

采集速率：每30μs一張全質譜

質量分辨率：選擇高分辨率模式時，在m/z208可達5000

動態(tài)范圍：10⁷

質量準確度40ppm

靈敏度:10³cps/ppm

深度分辨率：nm

正負離子模式

4個離子的靈活消隱功能

簡單易用的水平樣品裝載

產(chǎn)品特點：

樣品分析快速無預處理：無需超高壓腔

適用于各種材料及鍍層分析

全質量覆蓋：可提供從H到U元素的完整質譜和分子信息，包括同位素監(jiān)測

獨有3D數(shù)據(jù) ，脈沖射頻模式(**)

高深度分辨率：測試薄層可至1nm到厚層：厚層可達100μm

無需校準的半定量分析：濺射和電離過程分離，使得基體效應*小化

原理圖：

應用實例：

富含O18氧化鉭的同位素分析

Si PV的雜質識別

Si中B的定量摻雜

InGaN中Mg的定量分析