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隨著化合物半導體器件（如GaAsMMIC、InPMMIC以及GaN藍光LED）市場的不斷擴大，MOCVD系統(tǒng)的應用不斷增長。
產品描述
在MOCVD反應設備外延涂層工藝中，MOCVD基座材料的性能對于涂層有著非常重要的影響。基座石墨材料選擇和加工工藝，對于SiC涂層有緊密影響。包括材料的純度、硬度、熱膨脹系數和導熱率，都是非常重要的因素。
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