參考價(jià)格
面議型號(hào)
掩模版品牌
產(chǎn)地
廣東樣本
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所謂光掩膜是微電子制造領(lǐng)域中光刻工藝所使用的圖形母版,是由不透光的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形(Mask Pattern),并通過(guò)曝光將圖形轉(zhuǎn)印到產(chǎn)品基板之上。
掩模版的主要應(yīng)用于以下領(lǐng)域:
IC(Integrated Circuit,集成電路)
尤其是LSI(Large Scale IC,大規(guī)模集成電路)包括Wafer制程及IC Bumping等
FPD(Flat Panel Display,平板顯示器)包括PDP、LCD、LED、OLED等
PCB(Printed Circuit Boards,印刷電路板)
MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微機(jī)電系統(tǒng))
暫無(wú)數(shù)據(jù)!