參考價格
面議型號
立式LPCVD低壓氣相沉積爐品牌
育豪微電子產(chǎn)地
山東樣本
暫無非金屬電熱元件：
其他金屬電熱元件：
其他燒結(jié)氣氛：
其他溫控精度：
-最高溫度：
-額定溫度：
-看了立式LPCVD低壓氣相沉積爐的用戶又看了
留言詢價
虛擬號將在 180 秒后失效
使用微信掃碼撥號
立式LPCVD低壓化學(xué)氣相淀積設(shè)備是半導(dǎo)體集成電路制造的重要工序之一，本設(shè)備主要用于：8-12英寸硅片SiO2-LTO TEOS、SIPOS-含氧多晶硅、SI3N4-氮化硅、BPSG-磷硅玻璃、POLY-多晶硅、TEOS-氧化硅薄膜的生長。它是將原材料氣體（或者液態(tài)源氣化）用熱能激活發(fā)生化學(xué)反應(yīng)而在基片表面生成固體薄膜。低壓化學(xué)氣相淀積是在低壓下進(jìn)行的，由于氣壓低，氣體分子平均自由程大,使生長的薄膜均勻性好,而且基片可以豎放而裝片量大，特別適用于大規(guī)模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件和光導(dǎo)纖維等行業(yè)的工業(yè)化生產(chǎn)專用設(shè)備，采用電腦工控機軟件控制方式，是其性能技術(shù)指標(biāo)已經(jīng)達(dá)到國際先進(jìn)技術(shù)水平。
暫無數(shù)據(jù)！
立式LPCVD低壓氣相沉積爐的工作原理介紹？立式LPCVD低壓氣相沉積爐的使用方法？立式LPCVD低壓氣相沉積爐多少錢一臺？立式LPCVD低壓氣相沉積爐使用的注意事項立式LPCVD低壓氣相沉積爐的說明書有嗎？立式LPCVD低壓氣相沉積爐的操作規(guī)程有嗎？立式LPCVD低壓氣相沉積爐的報價含票含運費嗎？立式LPCVD低壓氣相沉積爐有現(xiàn)貨嗎？立式LPCVD低壓氣相沉積爐包安裝嗎？
手機版：
工商已核實
