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拋光賽道全面爆發(fā):融資加速、創(chuàng)新領(lǐng)跑、專利突破、產(chǎn)能升級、材料革新


來源:中國粉體網(wǎng)   山林

[導讀]  拋光賽道全面爆發(fā):融資加速、創(chuàng)新領(lǐng)跑、專利突破、產(chǎn)能升級、材料革新

中國粉體網(wǎng)訊


博雅新材高性能稀土閃爍晶體材料生產(chǎn)制造項目動工


近日,眉山博雅新材料股份有限公司的夾江縣核醫(yī)學探測領(lǐng)域用高性能稀土閃爍晶體材料生產(chǎn)制造項目破土動工,一期計劃投入單晶爐100臺,切割、研磨、拋光、清洗等生產(chǎn)設(shè)備100臺,同時還將配套建設(shè)生產(chǎn)廠房及機電動力設(shè)施、辦公樓等輔助配套設(shè)施。


 


晶亦精微取得一項名為“一種自降溫的晶圓拋光方法”的專利


近日,國家知識產(chǎn)權(quán)局信息顯示,北京晶亦精微科技股份有限公司取得一項名為“一種自降溫的晶圓拋光方法”的專利,該發(fā)明提供的自降溫的晶圓拋光方法可以在拋光工藝中實現(xiàn)自降溫,保證拋光墊溫度在較低范圍內(nèi),可以有效延長拋光墊的使用壽命,避免出現(xiàn)拋光頭背膜失效、拋光墊脫膠等問題,降低晶圓劃傷風險,提高晶圓拋光質(zhì)量。


 


上海交通大學沈彬教授課題組取得高性能磨粒領(lǐng)域重要進展


上海交通大學沈彬教授課題組將液態(tài)金屬鎵微液滴化與快速原位裹覆金剛石顆粒,構(gòu)筑了一種鎵-金剛石“細胞式”的懸浮浸潤網(wǎng)絡(luò),從而實現(xiàn)了金剛石顆粒多表面的原位石墨烯生長與批量制備。這種“細胞式”的懸浮浸潤策略可實現(xiàn)千克級的石墨烯-金剛石共價異質(zhì)顆粒的制備,相比傳統(tǒng)的制備方法的有效產(chǎn)率提升3-5個數(shù)量級,具有廣闊的工業(yè)應(yīng)用前景。相比傳統(tǒng)金剛石磨粒,這一新型磨粒在超硬半導體材料(金剛石、碳化硅等)的拋光加工中具有更高的拋光效率與更高的拋光質(zhì)量,其原子級材料去除率是傳統(tǒng)金剛石磨粒的5倍。


 


樂山盛和1.5萬噸/年拋光粉項目通過審查


近日,四川省發(fā)展和改革委員會發(fā)布關(guān)于樂山盛和稀土有限公司1.5萬噸/年高性能稀土拋光粉項目節(jié)能報告的審查意見,結(jié)果為原則同意該項目節(jié)能報告。據(jù)了解,該項目投資46801.45萬元,分兩期建設(shè),一期購置30000噸/年碳酸稀土為原料,生產(chǎn)15000噸/年高性能稀土拋光粉;二期以氯化稀土料液為原料,生產(chǎn)30000噸/年碳酸稀土,為一期生產(chǎn)15000噸/年高性能稀土拋光粉配套。


目前該項目一期于2024年12月開工建設(shè),目前項目土石方工程已全部完成,正在進行主體結(jié)構(gòu)施工,現(xiàn)階段已經(jīng)完成一期整體工程量的20%,預(yù)計8月底具備設(shè)備安裝條件,計劃年內(nèi)建成投產(chǎn)。


 


精密研磨砂輪廠商:西安易星完成數(shù)千萬元融資!


近日,精密研磨砂輪廠商西安易星新材料有限公司完成數(shù)千萬元Pre-A輪融資。據(jù)悉,公司目前已成功導入國內(nèi)半導體減薄領(lǐng)域的頭部企業(yè)。本輪募集的資金主要用于技術(shù)研發(fā)、產(chǎn)能擴建、測試平臺升級及市場開拓,以滿足迅速增長的客戶需求。同時,公司將進一步圍繞碳化硅減薄研磨輪研發(fā)不斷精進,鞏固公司在該行業(yè)領(lǐng)域的領(lǐng)先地位。


 


宇環(huán)數(shù)控獲瀏陽經(jīng)開區(qū)2024年度創(chuàng)新發(fā)展獎、提質(zhì)創(chuàng)牌獎


宇環(huán)數(shù)控是一家專業(yè)從事數(shù)控磨削設(shè)備及智能裝備的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售與服務(wù)地公司。近日,瀏陽經(jīng)開區(qū)召開深入推進“招商質(zhì)效提升年”“園區(qū)發(fā)展提質(zhì)年”暨2025年經(jīng)濟工作會議,會議對2024年度先進企業(yè)及個人予以集中表彰,宇環(huán)數(shù)控被授予2024年度“創(chuàng)新發(fā)展獎”“提質(zhì)創(chuàng)牌獎”。


 


奕斯偉材料取得“用于最終拋光工藝的處理方法及拋光晶圓”專利


近日,國家知識產(chǎn)權(quán)局信息顯示,西安奕斯偉材料科技股份有限公司取得一項名為“用于最終拋光工藝的處理方法及拋光晶圓”的專利,可以在對晶圓表面進行前序工藝損傷去除和鏡面化修復(fù)的同時減少微分干涉對比缺陷的形成。


 



(中國粉體網(wǎng)編輯整理/山林)

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