中國粉體網(wǎng)訊  近日，國家知識產(chǎn)權(quán)局信息顯示，萬華化學(xué)集團電子材料有限公司取得一項名為“一種具有均勻直立泡孔的化學(xué)機械拋光墊、制備方法及其應(yīng)用”的專利，能夠賦予拋光墊更均勻的拋光速率。

來源：國家知識產(chǎn)權(quán)局

化學(xué)機械拋光(Chemical Mechanical Polishing，CMP)可使晶片表面粗糙度達到亞納米級別，是目前唯一可以實現(xiàn)晶片表面平坦化要求的關(guān)鍵技術(shù)。

在CMP過程中，拋光墊起到了儲存拋光液、輸送拋光液、排出廢物、傳遞加工載荷、保證拋光過程平穩(wěn)進行等作用，其成本占CMP總成本的三分之一左右。在CMP過程中，拋光墊浸泡在拋光液中會與工件和磨粒發(fā)生相對運動，這將引起拋光墊性能的下降，甚至造成拋光墊的廢棄，因而制備質(zhì)量高、性能穩(wěn)定的拋光墊勢在必行。

萬華化學(xué)集團股份有限公司本次發(fā)明提供一種具有均勻直立泡孔的化學(xué)機械拋光墊、制備方法及其應(yīng)用，所述制備方法包括以下步驟：a)將聚氨酯樹脂、表面活性劑及黑色漿溶解在溶劑中配制成涂布漿料；b)將涂布漿料以一定厚度均勻涂布在支撐層上隨即浸入凝固浴中固化成型；c)水洗烘干后的拋光層進行表面砂光、壓制溝槽、貼合背膠層及離型層得到化學(xué)機械拋光墊。該發(fā)明方法制備的化學(xué)機械拋光墊具有均勻直立泡孔，相比傳統(tǒng)類型的拋光墊，能夠賦予拋光墊更均勻的拋光速率，還可延長拋光墊的使用壽命。

萬華化學(xué)是一家全球化運營的化工新材料公司，依托不斷創(chuàng)新的核心技術(shù)、產(chǎn)業(yè)化裝置及高效的運營模式，可提供極具競爭力的產(chǎn)品及解決方案。萬華化學(xué)始終堅持以技術(shù)創(chuàng)新為第一核心競爭力，持續(xù)優(yōu)化產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)，業(yè)務(wù)涵蓋聚氨酯、石化、精細化學(xué)品、新興材料、未來產(chǎn)業(yè)五大產(chǎn)業(yè)集群。所服務(wù)的行業(yè)主要包括：生活家居、運動休閑、汽車交通、建筑工業(yè)、電子電氣、個人護理和綠色能源等。

作為一家全球化運營的化工新材料公司，目前，萬華化學(xué)已擁有煙臺、蓬萊、寧波、四川、福建、珠海、寧夏、匈牙利、捷克九大生產(chǎn)基地及工廠，形成了強大的生產(chǎn)運營網(wǎng)絡(luò)；此外，煙臺、寧波、上海、北京、深圳、匈牙利、西班牙七大研發(fā)中心已完成布局，并在歐洲、美國、日本等十余個國家和地區(qū)設(shè)立子公司及辦事處。

來源：萬華化學(xué)官網(wǎng)

參考來源：

[1] 萬華化學(xué)官網(wǎng)、國家知識產(chǎn)權(quán)局

[2] 曹威等，化學(xué)機械拋光墊的研究進展

[3] 霍金向等，化學(xué)機械拋光中摩擦潤滑與化學(xué)行為研究進展

（中國粉體網(wǎng)編輯整理/山林）

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