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簡介：本設備為連續(xù)式CVD爐，可用于硅/氧化亞硅負極材料的氣相沉積碳包覆；使用氮氣、乙炔、甲烷等混合氣；適用于松散、無強酸強堿等腐蝕性成份的粉體材料；

爐內恒溫時間需要1-4小時（加熱區(qū)，可根據客戶工藝需求而定）；產品管內**填充率約為5%—20%（根據客戶材料特征與包覆工藝確定）；

特色與優(yōu)勢：

爐管整體310s板材焊接，所有焊縫做無損探傷，爐管整體做固溶。爐頭采用填料潤滑端面密封，彈性密封+氣環(huán)密封+潤滑脂環(huán)密封。以上密封方式既能保證動靜結合的良好密封性，又能在高溫下長期使用。密封結構部位獨立循環(huán)水冷卻，降低密封部位潤滑脂蒸發(fā)。

進氣管路設計在爐體出料端，氣體流向為逆向物料行進方向而設計。進氣管路為氮氣和碳源氣體混合進氣口、氮氣進氣口。進氣流速通過質量流量計控制。精確控制混合氣比例。進氣管路出氣口延伸至爐管高溫區(qū)。進氣管材質為310s。進氣管可不停爐獨立拆卸，便于清理內部沉積物。

排氣管路設計在爐體進料端，與進料螺旋平行，氣體流向為逆向物料行進方向設計。*終排至爐外。排氣管內設計獨立清理，避免粉體的沉積造成煙道堵塞導致排氣不暢。導致爐內壓力不可控，排氣管路底部設有粉塵收集倉。