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荷蘭飛納推出第二代肖特基場發(fā)射電子源臺式掃描電鏡 Phenom Pharos G2, 集背散射電子成像、二次電子成像和能譜分析功能于一體。高亮度肖特基場發(fā)射電子源，使用戶可以輕松獲得高分辨率圖像，且低電壓性能優(yōu)異。

第二代臺式場發(fā)射電鏡 Phenom Pharos G2 的分辨率提升至優(yōu)于 1.8 nm，廣泛用于半導體、生物學、醫(yī)學、金屬材料、高分子材料、化工原料、地質(zhì)礦物、商品檢驗、產(chǎn)品生產(chǎn)質(zhì)量控制、寶石鑒定、考古和文物鑒定及公安刑偵物證分析。

分辨率優(yōu)于 1.8 nm

具有卓越的成像質(zhì)量，是目前分辨率最高的臺式掃描電鏡。優(yōu)于 1.8 nm 的分辨率，可以輕松獲取樣品的更多細節(jié)信息。

樣品：金顆粒  放大倍數(shù)：50萬倍

加速電壓低至 1kV

新一代場發(fā)射系列低電壓性能優(yōu)異，加速電壓范圍向下調(diào)低至 1kV, 無需特殊制樣，無需擔心荷電，可減輕電子束對樣品的損傷和穿透，更好地觀測絕緣和電子束敏感的樣品，可以最大程度地還原樣品的真實形貌。

5 kV 充電嚴重                                     1 kV 充電消失

UI 界面全面升級

一切以圖像為中心，用戶界面全面升級，取消傳統(tǒng)的能譜獨立顯示屏，將電鏡、能譜、全景拼圖等操作界面集成在 1 個 24 英寸顯示屏上，為用戶提供最佳的操作體驗。無需切換即可使用實時能譜功能，在成像的同時，快速獲取成分信息。

基本參數(shù)

· 燈絲材料：肖特基場發(fā)射燈絲
· 分辨率 ：優(yōu)于 1.8nm
· 電子放大：最大 200 萬倍
· 加速電壓：1kV-20kV, 連續(xù)可調(diào)
· 內(nèi)置 UPS（不間斷電源）適配器
· 全面升級為新 UI：電鏡、能譜等在同一界面