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1200℃集成型自動小型PECVD系統(tǒng)
1200℃集成型自動小型PECVD系統(tǒng)

參考價格

20-30萬元

型號

1200℃集成型自動小型PECVD系統(tǒng)

品牌

中環(huán)

產(chǎn)地

天津

樣本

暫無
天津中環(huán)電爐股份有限公司

金牌會員

|

第12年

|

生產(chǎn)商

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產(chǎn)品用途

PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強,很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜。

PECVD系統(tǒng)配置;

1.1200度開啟式滑動單溫區(qū)真空管式爐

2.等離子射頻電源

3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)

4.真空系統(tǒng)(單獨購買)

產(chǎn)品特性;

電源范圍廣;溫度范圍寬;濺射區(qū)域長;整管可調(diào);精致小巧,性價比高,可實現(xiàn)快速升降溫,是實驗室生長薄膜石墨烯,金屬薄膜,陶瓷薄膜,復(fù)合薄膜等的理想選擇,也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用。

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