參考價格
面議型號
SF-3品牌
大塚電子產(chǎn)地
江蘇樣本
暫無看了分光干渉式晶圓膜厚儀 SF-3的用戶又看了
留言詢價
虛擬號將在 180 秒后失效
使用微信掃碼撥號
即時檢測
WAFER基板于研磨制程中的膜厚
玻璃基板于減薄制程中的厚度變化
(強酸環(huán)境中)
產(chǎn)品特色
非接觸式、非破壞性光學式膜厚檢測
采用分光干涉法實現(xiàn)高度檢測再現(xiàn)性
可進行高速的即時研磨檢測
可穿越保護膜、觀景窗等中間層的檢測
可對應長工作距離、且容易安裝于產(chǎn)線或者設備中
體積小、省空間、設備安裝簡易
可對應線上檢測的外部信號觸發(fā)需求
采用*適合膜厚檢測的獨自解析演算法。(已取得**)
可自動進行膜厚分布制圖(選配項目)
規(guī)格式樣
SF-3 | |
|---|---|
膜厚測量范圍 | 0.1 μm ~ 1600 μm※1 |
膜厚精度 | ±0.1% 以下 |
重復精度 | 0.001% 以下 |
測量時間 | 10msec 以下 |
測量光源 | 半導體光源 |
測量口徑 | Φ27μm※2 |
WD | 3 mm ~ 200 mm |
測量時間 | 10msec 以下 |
※1 隨光譜儀種類不同,厚度測量范圍不同
※2 *小Φ6μm
暫無數(shù)據(jù)！
顯微分光膜厚儀“OPTM”O(jiān)PTM系列顯微分光膜厚儀是一款可替代橢偏儀，測試膜厚、折射率n、消光系數(shù)k、絕對反射率的新型高精度、高性價比的分光膜厚儀。適用于各種可透光膜層的測試，并有獨家專利可針對透明
Zeta電位?粒徑?分子量測量系統(tǒng)ELSZneoELSZneo是ELSZseries的最高級機型，除了在稀薄溶液~濃厚溶液中進行zeta電位（ZetaPotential，ζ-電位）和粒徑測定之外，還能
大塚電子利用光技術，開發(fā)出各種分析測量裝置，給客戶提供尖端測量技術支持。以測量技術、應用示例等重點介紹為主，定期舉辦Webinar(網(wǎng)絡研討會)。
分光干渉式晶圓膜厚儀 SF-3的工作原理介紹？分光干渉式晶圓膜厚儀 SF-3的使用方法？分光干渉式晶圓膜厚儀 SF-3多少錢一臺？分光干渉式晶圓膜厚儀 SF-3使用的注意事項分光干渉式晶圓膜厚儀 SF-3的說明書有嗎？分光干渉式晶圓膜厚儀 SF-3的操作規(guī)程有嗎？分光干渉式晶圓膜厚儀 SF-3的報價含票含運費嗎？分光干渉式晶圓膜厚儀 SF-3有現(xiàn)貨嗎？分光干渉式晶圓膜厚儀 SF-3包安裝嗎？
手機版：
工商已核實
