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面議型號(hào)
高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)--PVD400品牌
沈陽(yáng)科學(xué)儀器產(chǎn)地
遼寧樣本
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真空室結(jié)構(gòu):
方形前開(kāi)門(mén)
真空室尺寸:
φ400x400x400mm
極限真空度:
≤6.6E-5Pa
沉積源:
永磁靶3套，φ2英寸
樣品尺寸，溫度:
φ4英寸，1片，**800℃
占地面積（長(zhǎng)x寬x高）:
約1.8米×1.7米×2米
電控描述:
全自動(dòng)
工藝:
片內(nèi)膜厚均勻性：≤±3%
暫無(wú)數(shù)據(jù)！
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