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PulsPlasma? 離子氮化設備是一款用于等離子體擴散工藝的真空爐，它可使零件表面富含氮和/或碳，從而提高耐磨損和耐腐蝕能力。PlaTeG脈沖等離子體?擴散工藝，特別是PulsPlasma?脈沖離子氮化（PPNTM）和PulsPlasma?脈沖離子氮碳共滲（PPNCTM）應用了等離子體擴散方法，相比于傳統(tǒng)的氮化工藝（如鹽浴軟氮化或氣體氮化），它為客戶提供了眾多優(yōu)勢，而且對環(huán)境友好，有助于節(jié)約資源:

• 工藝氣體和電力消耗低

• 使用環(huán)保型工藝氣體

• 靈活的處理溫度，溫度范圍350℃ – 600℃

• 可選擇使用機械蓋板進行局部處理

• 用于處理高合金鋼和不銹鋼（保持抗腐蝕能力）

• 可對氮化層結構進行控制

• 用于處理燒結的鐵/鋼以及鈦和鋁等有色金屬

PlaTeG-PP120

尺寸：直徑1000mm x 高度1600mm

根據(jù)裝載產(chǎn)品和所需的處理結果，可以進行各種PulsPlasma? 擴散工藝：

• PPNTM-PulsPlasma? 氮化：通過氮的擴散提高大多數(shù)鋼、鈦合金和鋁合金的耐磨損和耐腐蝕能力；

• PPCNTM- PulsPlasma?氮碳共滲：通過氮和碳的擴散增強鋼的耐磨損和耐腐蝕能力；

• PPCTM-PulsPlasma? 滲碳：通過碳的擴散提高不銹鋼的耐磨損和耐腐蝕能力；

• PPOTM-PulsPlasma?氧化處理：對鋼鐵表面進行氧化處理，有助于提高耐腐蝕性并降低摩擦系數(shù)；

• LT-PPNTM, LT-PPNTM, LT-PPNTM對鉻含量大于13%的不銹鋼零件進行處理，在保持耐腐蝕性的同時還可以提高耐磨性；

設備類型 / 靈活和可靠的工藝

根據(jù)客戶的需求及相關應用，可對爐子進行量身設計。

• 鐘罩式系統(tǒng)（標準）

• 井室爐

• 臥式爐 (水平)

PVA TePla堅信簡化系統(tǒng)及部件和確保安全性是相當重要的事情。為此，我們不斷與時俱進，自主研發(fā)并設計出多款出色且適應性強的系統(tǒng)。

H-臥式爐：

用于大型和重型零件

M-單室型設備：

帶有一個真空鐘罩

S-交替型設備：

帶有一個真空鐘罩和兩個鐘罩底座

T-雙室型設備：

帶有兩個真空鐘罩和兩個鐘罩底座