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高溫氧化爐品牌
賽瑞達(dá)產(chǎn)地
江蘇樣本
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氧氣溫控精度：
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SiC與GaN晶圓氧化工藝設(shè)備，工藝時(shí)間短，生產(chǎn)效率高，具有出色的工藝性能。
設(shè)備特點(diǎn)
◎ 型號:OXIDE150
◎ 工藝溫度:1380℃~1500℃
◎ 工藝氣體:H?/N?O/NO/O?/Ar?/N?
◎ 工藝壓力:100mbr-Atmospher
◎ 晶圓尺寸:≤150mm
◎ 產(chǎn)能:25或50 片/批
◎ 正常UP Time:98%
◎ 全自動(dòng)化系統(tǒng)和MES服務(wù)
暫無數(shù)據(jù)！
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