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立式化學(xué)氣相沉積爐（SiC、BN）圖片
本圖片來自湖南頂立科技股份有限公司提供的立式化學(xué)氣相沉積爐（SiC、BN），型號(hào)為VCVD的頂立科技真空爐，產(chǎn)地為湖南，屬于品牌，參考價(jià)格為 100-150萬元，公司還可為用戶供應(yīng)高品質(zhì)的臥式化學(xué)氣相爐、立式化學(xué)氣相沉積爐等產(chǎn)品。湖南頂立科技股份有限公司是中國粉體網(wǎng)的金牌會(huì)員，合作關(guān)系長達(dá)12年，工商信息已通過人工核驗(yàn)，獲得粉享通誠信認(rèn)證，請(qǐng)放心選擇！
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湖南頂立科技股份有限公司
金牌會(huì)員12年
營業(yè)執(zhí)照已認(rèn)證
品牌性質(zhì)：生產(chǎn)商
廠商榮譽(yù)：
電話咨詢
留言咨詢
核心參數(shù)
金屬電熱元件：
其他燒結(jié)氣氛：
真空溫控精度：
±5最高溫度：
1500額定溫度：
1500非金屬電熱元件：
其他
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