推薦鈰基稀土拋光材料設計合成及拋光性能調控

中國粉體網訊 化學機械拋光（Chemical Mechanical Polishing, CMP）是一種結合化學腐蝕與機械研磨的表面處理技術，是實現(xiàn)材料高精度平坦化的有效途徑。磨料在拋光過程中通過微切削、微擦劃、滾壓等方式作[更多]