中國粉體網(wǎng)訊  近日，湖北鼎龍控股股份有限公司發(fā)布2024年度業(yè)績預(yù)告，其中，CMP拋光墊銷售收入約7.31億元，同比增長約75%；CMP拋光液、清洗液合計(jì)銷售收入約2.16億元，同比增長約180%。

化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）借助于拋光液中化學(xué)試劑的化學(xué)腐蝕和納米磨粒的機(jī)械磨削雙重耦合作用，可以在原子水平上實(shí)現(xiàn)材料的去除，可以在0.35μm及其以下尺寸器件上同時(shí)實(shí)現(xiàn)局部和全局平坦化，被廣泛應(yīng)用于光學(xué)元件、計(jì)算機(jī)硬盤、微機(jī)電系統(tǒng)、集成電路等領(lǐng)域。

在CMP過程中，拋光液的主要作用是在晶片表面產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，其形成的反應(yīng)物再由磨料的機(jī)械摩擦作用去除。在化學(xué)成膜與機(jī)械去膜的交替過程中，通過化學(xué)與機(jī)械的共同作用從工件表面去除極薄的一層材料，最終實(shí)現(xiàn)晶片的超精密表面加工。通常，拋光液的流速、粘度、溫度、成分、pH值等都會對去除效果有影響。鼎龍股份現(xiàn)已自主解決了拋光液三大系列(硅系列、鋁系列、鈰系列)核心原材料問題。

來源：鼎龍股份官網(wǎng)

拋光墊對拋光效果也起著至關(guān)重要的影響，拋光墊起到了儲存拋光液、輸送拋光液、排出廢物、傳遞加工載荷、保證拋光過程平穩(wěn)進(jìn)行等作用，其成本占CMP總成本的三分之一左右。在CMP過程中，拋光墊浸泡在拋光液中會與工件和磨粒發(fā)生相對運(yùn)動(dòng)，這將引起拋光墊性能的下降，甚至造成拋光墊的廢棄，因而制備質(zhì)量高、性能穩(wěn)定的拋光墊勢在必行。但拋光墊產(chǎn)品橫跨高分子化學(xué)、高分子物理、有機(jī)合成、摩擦學(xué)、精密加工等多學(xué)科領(lǐng)域，技術(shù)復(fù)雜度極高。鼎龍股份具備拋光墊產(chǎn)品全制程、全流程的研發(fā)生產(chǎn)能力，可做到拋光墊型號需求全覆蓋。

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湖北鼎龍控股股份有限公司創(chuàng)立于2000年，2010年創(chuàng)業(yè)板上市，是一家從事集成電路設(shè)計(jì)、半導(dǎo)體材料及打印復(fù)印通用耗材研發(fā)、生產(chǎn)及服務(wù)的國家高新技術(shù)企業(yè)、國家技術(shù)創(chuàng)新示范企業(yè)、國家知識產(chǎn)權(quán)示范企業(yè)、工信部制造業(yè)單項(xiàng)冠軍示范企業(yè)。公司總部位于武漢經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)，產(chǎn)研基地遍布湖北、廣西、長三角、珠三角等地區(qū)，具備多年與全球500強(qiáng)企業(yè)合作能力，為全球高技術(shù)跨國公司做供應(yīng)鏈配套和服務(wù)。

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2024年，公司半導(dǎo)體材料業(yè)務(wù)及集成電路芯片設(shè)計(jì)和應(yīng)用業(yè)務(wù)十分突出，實(shí)現(xiàn)營業(yè)收入約15.6億元，預(yù)計(jì)同比增長約79%。公司半導(dǎo)體材料業(yè)務(wù)已經(jīng)成為公司重要的利潤來源。此外，公司在進(jìn)口替代類創(chuàng)新材料領(lǐng)域的研發(fā)、產(chǎn)業(yè)化、體系及客戶服務(wù)能力也在持續(xù)提升，產(chǎn)品矩陣進(jìn)一步完善，規(guī)模效應(yīng)顯著提高，這也為后續(xù)業(yè)績持續(xù)提升奠定堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。

參考來源：

[1] 鼎龍股份官網(wǎng)、巨潮資訊網(wǎng)

[2] 曹威等，化學(xué)機(jī)械拋光墊的研究進(jìn)展

[3] 嚴(yán)嘉勝等，硅晶片化學(xué)機(jī)械拋光液的研究進(jìn)展

（中國粉體網(wǎng)編輯整理/山林）

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