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Omni多角度粒度及高靈敏度Zeta電位分析儀**結(jié)合了背向光散射技術(shù)與傳統(tǒng)動態(tài)光散射技術(shù)以及硬件PALS（Phase Analysis Scattering，相位分析光散射）技術(shù)，擁有15°、90°與173°三個散射角度，突破了傳統(tǒng)單角度光散射儀測量的局限性，硬件PALS技術(shù)徹底解決了低電泳遷移率體系Zeta電位的精確測量，是目前市場上功能***的一款儀器。

作為*先將背向光散射技術(shù)（Back-Scattering）引入高濃度粒度分析的廠家，Brookhaven公司應(yīng)用全新的光纖技術(shù)將背向光散射技術(shù)與傳統(tǒng)動態(tài)光散射技術(shù)進(jìn)行了**結(jié)合，突破性地推出了結(jié)合15°、90°與173°三個散射角度與硬件PALS（相位分析光散射）技術(shù)的Omni多角度粒與高靈敏度Zeta電位分析儀。隨著Omni的出現(xiàn)，突破了傳統(tǒng)單角度光散射儀測量的局限性，實(shí)現(xiàn)在同一臺粒度分析儀中，既可以同時(shí)兼顧大、小顆粒的散射光信號，又可以有效地提高了測量濃度上限，zui高可達(dá)40 %wt；硬件PALS技術(shù)（與傳統(tǒng)基于頻移技術(shù)的光散射方法相比，靈敏度可提高1000倍）的應(yīng)用，徹底解決了長期以來無法對諸如在低介電常數(shù)、高粘度、高鹽度以及等電點(diǎn)附近這些測量條件下（電泳遷移率比通常水相條件下低10－1000倍，傳統(tǒng)方法沒有足夠的分辨率進(jìn)行測量）的樣品進(jìn)行分析的難題。Omni是目前市場上功能zui強(qiáng)大的粒度與Zeta電位分析儀。

Omni多角度粒度及高靈敏度Zeta電位分析儀典型應(yīng)用

1.蛋白、免疫球蛋白、縮氨酸、DNA、RNA、膠束

2.脂質(zhì)體、外切酶體及其他生物膠體

3.多糖、藥物制備

4.納米顆粒、聚合物膠乳、微乳液

5.油包水、水包油體系

6.涂料、顏料、油漆、油墨、調(diào)色劑

7.食品、化妝品配方

8.陶瓷、耐火材料、廢水處理、炭黑

Omni多角度粒度及高靈敏度Zeta電位分析儀應(yīng)用案例

  不同粒徑對Zeta電位等電點(diǎn)的影響          不同官能團(tuán)配比對等電點(diǎn)的影響          Zeta電位值與細(xì)胞吸收度的關(guān)系

通過調(diào)整顆粒的粒徑或正負(fù)電荷官能團(tuán)的比例，混合電荷修飾的納米金顆粒其等電點(diǎn)可以在4～7之間明顯的變化，不同比例的官能團(tuán)和顆粒的靜電荷對動物細(xì)胞吸收度有著重大影響。（數(shù)據(jù)摘自JACS）

Omni多角度粒度及高靈敏度Zeta電位分析儀技術(shù)參數(shù)

1.粒度測量范圍：0.3nm～10μm

2.Zeta電位測量適用粒度范圍：1nm～100μm

3.樣品濃度范圍：0.1ppm至40%w/v(與顆粒大小和折射率有關(guān))

4.典型精度：1％

5.樣品類型：蛋白、納米粒子、聚合物及分散于水或其他溶劑中的膠體樣品

6.樣品體積：1～3ml

7.分子量測定范圍：342～2×10⁷Dalton

8.電導(dǎo)率范圍：0～30S/m

9.電泳遷移率范圍：10^-11 ～ 10^-7 m² /V.s

10.電場強(qiáng)度：0 ～ 60 kV/m

11.電極：**性開放式電極，電極材料純鈀；耐腐蝕電極（選件）；微量電極（選件）

12.溫控范圍與精度：-5℃～110℃，±0.1℃。

13.pH測量范圍：1-14

14.激光源：40mW光泵半導(dǎo)體激光器（可選5mW He-Ne激光器）

15.檢測器：高靈敏雪崩型二極管（APD）

16.相關(guān)器：4×522個物理通道，4×10¹¹個線性通道，采用動態(tài)采樣時(shí)間及動態(tài)延遲時(shí)間分配

17.自動趨勢分析：對時(shí)間、溫度及其他參數(shù)

18.散射角：15°、90°與173°

19.室溫操作情況：10°C ～ 75°C，濕度 0% ～95%, 無冷凝

20.大小及重量：233mm (H) x 427 mm (W) x 481 mm (D)，15 kg

21.電源：100/115/220/240 VAC, 50/60 Hz, 300 W

22.計(jì)算機(jī)（選件）：商用計(jì)算機(jī)，包括Window^TM軟件

23.自動滴定儀（選件）：獨(dú)立四泵驅(qū)動，可對pH值、電導(dǎo)率和添加劑濃度作圖