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PLUTO-M型等離子體表面處理系統(tǒng)是針對(duì)于高校，科學(xué)研究所和企業(yè)實(shí)驗(yàn)室，或者小批量生產(chǎn)的創(chuàng)新性企業(yè)而研發(fā)的創(chuàng)新型實(shí)驗(yàn)平臺(tái)。我們收集了大量客戶使用信息，分析應(yīng)用需求，將多年設(shè)計(jì)和制造經(jīng)驗(yàn)應(yīng)用于小型化，多功能的等離子體表面處理設(shè)備。無論是設(shè)計(jì)理念，零配件的選用，都傾注大量精力。

針對(duì)用戶不同的需求，我們提供對(duì)應(yīng)配件，在獲得常規(guī)性能的同時(shí)，擁有表面鍍膜（涂層），刻蝕，等離子化學(xué)反應(yīng)，粉體等離子體處理等多種能力。

產(chǎn)品特點(diǎn)：

等離子源采用頻率為13.56MHz射頻發(fā)生器，同時(shí)具備物理清洗和化學(xué)清洗能力。

電源功率為200W，覆蓋常規(guī)處理需求

創(chuàng)新設(shè)計(jì)，可調(diào)整電極之間距離，調(diào)整等離子體濃度和強(qiáng)度，極大提升處理效率和能力

真空腔體和管道連接件均采用316不銹鋼，電極6061航空鋁合金，配件材質(zhì)精良，保證設(shè)備穩(wěn)定高效運(yùn)行

樣品處理面積可達(dá)125mm（處理面積可達(dá)200mm，如有需求請(qǐng)咨詢銷售人員）

4.3寸工業(yè)級(jí)觸摸屏，操作簡(jiǎn)單，可設(shè)置多種實(shí)驗(yàn)參數(shù)

性能穩(wěn)定可靠，質(zhì)量穩(wěn)定，自主研發(fā)，售后有保障

產(chǎn)品參數(shù):

1.真空腔規(guī)格: 316不銹鋼腔體，直徑210mm*(深)230mm 約4L

2.電極：兩個(gè)自適應(yīng)平板電極，材質(zhì)T6061鋁合金

3.電極尺寸：120*135mm 間距20~75mm 可調(diào)

4.等離子體發(fā)生器：RF射頻發(fā)生器，頻率：13.56MHz

5.功率：0-200W連續(xù)可調(diào)，精度1W

6.氣體控制：針式氣體流量閥，標(biāo)配1路氣體

7.控制方式：4.3寸工業(yè)控制觸摸屏

控制軟件功能：界面顯示實(shí)時(shí)工作狀態(tài)，

可顯示設(shè)置值與實(shí)際值，便于實(shí)時(shí)控制。

可自由設(shè)置等離子功率，通入氣體時(shí)間

全手動(dòng)控制和全自動(dòng)控制可選

8.保護(hù)裝置：一鍵急停保護(hù)按鈕