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IKN納米銀粉膠體磨 高剪切銀粉膠體磨 CMSD  濕法銀漿膠體磨 連續(xù)式銀粉膠體磨 真空銀粉膠體磨  納米銀漿膠體磨

在現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)中，銀粉作為一種重要的金屬材料，廣泛應(yīng)用于電子、化工、醫(yī)藥等領(lǐng)域。為了滿足不同行業(yè)對銀粉粒度和均勻度的嚴(yán)格要求，上海依肯機(jī)械的銀粉改進(jìn)式膠體磨融合了膠體磨的錐形刀頭和分散機(jī)平面的高剪切刀頭，為銀粉的研磨工藝帶來突破。

銀粉改進(jìn)式膠體磨由研磨腔、錐形刀頭、平面高剪切刀頭、電機(jī)等關(guān)鍵部件組成。工作時，銀粉通過進(jìn)料口進(jìn)入研磨腔，首先與錐形刀頭接觸。錐形刀頭設(shè)計獨(dú)特，其刀片呈螺旋狀排列，能夠?qū)︺y粉產(chǎn)生強(qiáng)大的離心力和剪切力，使銀粉在高速旋轉(zhuǎn)中被研磨，粒度逐漸減小。

IKN管線式濕磨機(jī)，為濕磨作業(yè)提供了一種既安全又高效的解決方案，可替代傳統(tǒng)的干磨方式。干磨時易產(chǎn)生大量粉塵，需配備合適的過濾系統(tǒng)，尤其是研磨易與氧氣形成爆炸性混合物的粉塵時，更需精心設(shè)計除塵和惰性氣體覆蓋系統(tǒng)，其成本常遠(yuǎn)超研磨機(jī)本身。

IKN濕磨機(jī)采用轉(zhuǎn)子 - 定子裝置，優(yōu)勢明顯：研磨出的細(xì)顆粒直接融入懸浮液，杜絕粉塵產(chǎn)生；全程物料封閉在系統(tǒng)內(nèi)，減少損失，適合研磨有機(jī)化學(xué)品、高價值或有毒物質(zhì)；產(chǎn)品進(jìn)料和計量更簡便；在醫(yī)藥工業(yè)中，尤其對活性藥用成分（API）研磨效果佳。IKN分散機(jī)可融入物質(zhì)合成過程，同步濕磨，省去后續(xù)工序，節(jié)省時間，減少系統(tǒng)數(shù)量和產(chǎn)品接觸面，且管線式濕磨機(jī)便于進(jìn)行CIP或SIP操作，投資價值高。

基于轉(zhuǎn)子 - 定子原理的IKN濕磨機(jī)，剪切能大，可實(shí)現(xiàn)10微米以下粒度研磨，能處理多種粘度產(chǎn)品，廣泛應(yīng)用于織物涂料、油漆、造紙顏料、潤滑脂等濕磨場景。

IKN管線式粉碎機(jī)與國內(nèi)粉碎機(jī)比較：

轉(zhuǎn)速和剪切力：

國內(nèi)粉碎機(jī)，3000/4700 RPM直聯(lián)電機(jī)的轉(zhuǎn)速決定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速

線速度：V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S

作用力：F=9/0.3X1000-=30000S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1

IKN高剪切粉碎機(jī)，9000/14000RPM通過皮帶加速

線速度：V=3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S

作用力：F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1

這是研磨粉碎的重要因素，相當(dāng)于后者是前者的4-5倍

設(shè)備內(nèi)部構(gòu)造：

國內(nèi)粉碎機(jī)，臥室直聯(lián)結(jié)構(gòu)，運(yùn)行時間長，容易造成軸的偏心，運(yùn)轉(zhuǎn)不正常，需要專業(yè)人員拆開內(nèi)部結(jié)構(gòu)更換，而且需要更換損害的乳化頭及軸。IKN粉碎機(jī)，立式分體結(jié)構(gòu)，運(yùn)行時間長，不易造成軸的偏心，容易更換，而且只要更換相應(yīng)的皮帶，一般的人員可以操作。

密封：

國內(nèi)粉碎機(jī)，填料密封或骨架密封，單機(jī)械密封或軸封，泄故障率高，產(chǎn)品泄漏進(jìn)入馬達(dá)，造成馬達(dá)燒毀

IKN粉碎機(jī)，雙機(jī)械密封，易于清洗，將泄漏隆至*低，可24小時不停運(yùn)轉(zhuǎn)，特殊德國PDF軸封，可以運(yùn)行100小時，可選擇德國高品質(zhì)機(jī)械密封，在一般的情況下，我們的機(jī)械密封可以**大承受16bar 壓力，根據(jù)機(jī)械密封的壓力一般要高于密封腔體的壓力2-3bar,這就決定我們的入口**大壓力可以達(dá)到12-13 bar.

產(chǎn)品效果：

國內(nèi)粉碎機(jī)，粒徑細(xì)度有限，10微米以下較困難，重復(fù)性差，產(chǎn)品粒徑分布不均勻

IKN高剪切粉碎機(jī)，可實(shí)現(xiàn)0.1-1微米的顆粒加工，粒徑分布均勻，納米級別分散乳化粉碎

設(shè)備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級

電機(jī)形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、

電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ

電機(jī)選配件： PTC 熱保護(hù)、降噪型

研磨分散機(jī)材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷

研磨分散機(jī)選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車

研磨分散機(jī)表面處理：拋光、耐磨處理

進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍

研磨分散機(jī)選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

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表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

參數(shù)內(nèi)的各種型號的流量主要取決于所配置的乳化頭的精密程度而定。

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