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硅橡膠改性分散機，納米物料改性硅橡膠技術，硅橡膠改性設備，高剪切研磨分散機
     
硅橡膠具有優(yōu)異的耐熱性、耐寒性和電性能，廣泛用于電絕緣制品和密封制品等領域中，近幾年得到了長足發(fā)展。隨著工業(yè)化水平的不斷提高，人們對硅橡膠的要求也越來越高，傳統(tǒng)的硅橡膠產(chǎn)品難以滿足人們的要求，尤其在機械性、阻燃性和抗老化性等方面，因此，對硅橡膠進行改性勢在必行。

納米粒子具有量子尺寸效應、小尺寸效應、表面效應和宏觀量子隧道效應，因而展現(xiàn)出許多特有的性質(zhì)。在催化、光吸收、磁介質(zhì)及新材料等領域有良好的發(fā)展前景，在對高分子材料性能的改善與提高方面也具有巨大的發(fā)展空間。利用納米材料作為改性劑對室溫硫化硅橡膠進行相關性能研究是一種新穎而有效的手段，納米SiOx粒子尺寸在10-15 nm，表面原子數(shù)目多，具有較高的表面能和表面結(jié)合能；同時，納米SiOx粒子表面氧原子大量流失，納米SiOx分子式中值在1．2～1．6之間，因而粒子表面欠氧而具有不穩(wěn)定的硅氧結(jié)構；另外，納米SiOx粒子表面還含有大量羥基，表面羥基值高達48％。因而利用納米SiOx對室溫硫化硅橡膠改性時將產(chǎn)生特殊的效果。并且，納米SiOx的主要成分與室溫硫化硅橡膠的主鏈組成相同，有利于納米材料在其中分散。再加以高精密的分散設備的配合，防止納米SiOx在分散中形成二級團聚體，IKN研磨分散機在納米改性硅橡膠領域有著豐富的經(jīng)驗，設備的結(jié)構以及高的轉(zhuǎn)速，可以很好的將納米物料分散到硅橡膠中，從而更充分的改進硅橡膠的性能。        

CMD2000系列研磨分散設備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。

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CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構：

研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品

**級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。 

CMD2000系列研磨分散機的特點：

①線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

②定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

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