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以非接觸方式測(cè)量晶圓等的研磨和拋光工藝，超高速、實(shí)時(shí)、高精度測(cè)量晶圓和樹脂
產(chǎn)品詳細(xì)信息
特點(diǎn)
非接觸式，非破壞性厚度測(cè)量
反射光學(xué)系統(tǒng)（可從一側(cè)接觸測(cè)量）
高速（**5 kHz）實(shí)時(shí)評(píng)測(cè)
高穩(wěn)定性（重復(fù)精度低于0.01％）
耐粗糙度強(qiáng)
可對(duì)應(yīng)任意距離
支持多層結(jié)構(gòu)（*多5層）
內(nèi)置NG數(shù)據(jù)消除功能
可進(jìn)行距離（形狀）測(cè)量（使用配件嵌入式傳感器）*
*通過測(cè)量測(cè)量范圍內(nèi)的光學(xué)距離
Point1：獨(dú)有技術(shù)
對(duì)應(yīng)廣范圍的薄膜厚度并實(shí)現(xiàn)高波長(zhǎng)分辨率。
采用大塚電子獨(dú)有技術(shù)制成緊湊機(jī)身。
Point2：高速對(duì)應(yīng)
即使是移動(dòng)物體也可利用準(zhǔn)確的間距測(cè)量，
是工廠生產(chǎn)線的理想選擇。
Point3：各種表面條件的樣品都可對(duì)應(yīng)
從20微米的小斑點(diǎn)到
各種表面條件的樣品，都可進(jìn)行厚度測(cè)量。
Point4：各種環(huán)境都可對(duì)應(yīng)
因?yàn)?遠(yuǎn)可以從200 mm的位置進(jìn)行測(cè)量，
所以可根據(jù)目的和用途構(gòu)建測(cè)量環(huán)境。
測(cè)定項(xiàng)目
厚度測(cè)量（5層）
用途
各種厚膜的厚度
式樣
| 型號(hào) | SF-3/200 | SF-3/300 | SF-3/1300 | SF-3/BB |
|---|---|---|---|---|
| 測(cè)量厚度范圍? | 5～400 | 10～775 | 50～1300 | 5～775 |
| 樹脂厚度范圍? | 10～1000 | 20～1500 | 100～2600 | 10～1500 |
| *小取樣周期kHz（μsec） | 5（200）※1 | - | ||
| 重復(fù)精度% | 0.01%以下※2 | |||
| 測(cè)量點(diǎn)徑? | 約φ20以上※3 | |||
| 測(cè)量距離mm | 50.80.120※4.200※4 | |||
| 光源 | 半導(dǎo)體光源（クラス３Ｂ相當(dāng)） | |||
| 解析方法 | FFT解析，*適化法※5 | |||
| interface | LAN，I/O入輸出端子 | |||
| 電源 | DC24V式樣（AC電源另行銷售） | |||
| 尺寸mm | 123×128×224 | 檢出器：320×200×300 光源：260×70×300 | ||
| 選配 | 各種距離測(cè)量探頭，電源部（AC用），安全眼睛 鋁參考樣品，測(cè)量光檢出目標(biāo)，光纖清理器 | |||
＊1 ： 測(cè)量條件以及解析條件不同，*小取樣周期也不同。
＊2 ： 是產(chǎn)品出貨基準(zhǔn)的保證值規(guī)格，是當(dāng)初基準(zhǔn)樣品AirGap約300μm和
約1000μm測(cè)量時(shí)的相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差（ n = 20 ）
＊3 ： WD50mm探頭式樣時(shí)的設(shè)計(jì)值
＊4 ： 特別式樣
＊5 ： 薄膜測(cè)量時(shí)使用
※CE取得品是SF-3/300、SF-3/1300
基本構(gòu)成
測(cè)定例
貼合晶圓
Mapping結(jié)果
研削后300mm晶圓硅厚度
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