等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD

品牌：安徽澤攸
產(chǎn)地：安徽
關(guān)注度：777
型號(hào)：等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
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產(chǎn)品介紹

多功能電感耦合等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（CVD）是用來(lái)制備高純、高性能固體薄膜的主要技術(shù)，主要借助微波或射頻的方法將目標(biāo)氣體進(jìn)行電離，促進(jìn)化學(xué)反應(yīng)在較低的溫度下進(jìn)行，從而在基片上沉積出所期望的薄膜。

目前項(xiàng)目團(tuán)隊(duì)自主研發(fā)的CVD設(shè)備可在多種襯底上（如金屬、氧化物、半導(dǎo)體表面）直接生長(zhǎng)以石墨烯為代表的各類新型二維材料，用于新材料、新器件的研發(fā)。工藝簡(jiǎn)單廉價(jià)，且具有傳統(tǒng)半導(dǎo)體生長(zhǎng)工藝的兼容性。

等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD

應(yīng)用案例

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CVD應(yīng)用——Graphene的各向異性刻蝕技術(shù)發(fā)展

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CVD應(yīng)用——MoS2的原位氧取代摻雜和相變調(diào)控

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CVD應(yīng)用——外延構(gòu)筑各種MoS2范德華異質(zhì)結(jié)

CVD應(yīng)用——二/四英寸連續(xù)單層MoS2 的取向外延生長(zhǎng)

CVD應(yīng)用——二/四英寸連續(xù)單層MoS2 的取向外延生長(zhǎng)2

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安徽澤攸科技有限公司

企業(yè)類型

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91340700MA2N3U8Q3E

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澤攸科技成立于2016年，擁有安徽、北京、上海和東莞四家分公司，是一家具有完全自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的精密儀器高科技公司。公司專注于掃描電鏡、原位測(cè)量系統(tǒng)、臺(tái)階儀、探針臺(tái)、電子束光刻機(jī)等精密設(shè)備的研究，填補(bǔ)了國(guó)家在科學(xué)精密儀器領(lǐng)域的諸多空白。人才是企業(yè)的核心競(jìng)爭(zhēng)力和發(fā)展的驅(qū)動(dòng)力。澤攸科技于20世紀(jì)90年代便開啟電子顯微鏡及相關(guān)原位附件的研發(fā)，已逐步打造成為科學(xué)精密儀器領(lǐng)域人才聚集地?，F(xiàn)有員工200多人，其中院士、專家團(tuán)隊(duì)20余人，擁有精通機(jī)械、光學(xué)、超高真空、電子技術(shù)、微納加工

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