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蔭罩掩膜對(duì)準(zhǔn)器 Shadow Mask Aligner
設(shè)備簡(jiǎn)介：
本設(shè)備可以用于精確和可重建性的對(duì)準(zhǔn)蔭罩掩膜和晶圓。可以放于真空腔體用于PVD工藝。沉積后，夾盤可以打開，晶圓和掩膜可以不破壞的分離，并且掩膜板可以重復(fù)利用。
夾盤可以用于任何基底尺寸以滿足用戶的要求，并且我們也可以提供精確和經(jīng)濟(jì)的由金屬、硅、玻璃、陶瓷等制造的蔭罩掩膜。
產(chǎn)品型號(hào)：SMA-100，SMA-150，SMA-200
晶圓和蔭罩尺寸：100mm，150mm，200mm，取決于設(shè)備的配置
樣品臺(tái)特征：
X和Y方向范圍：步進(jìn)10μm，靈敏度2μm
Z方向范圍：步進(jìn)10μm，靈敏度2μm
旋轉(zhuǎn)角度：360°不間斷
傾斜：工廠校準(zhǔn)，工程師手動(dòng)調(diào)節(jié)
對(duì)準(zhǔn)精度（濺射后）
線性對(duì)準(zhǔn)：典型值6μm， ZUI大值10μm
旋轉(zhuǎn)對(duì)準(zhǔn)：0.001°到0.009°
夾盤
晶圓尺寸：100mm，150mm，200mm
夾盤材料：陽(yáng)極氧化鋁或非陽(yáng)極氧化鋁
夾盤厚度：20mm取決于晶圓和掩膜的厚度
蔭罩掩膜（客戶可定制蔭罩掩膜）
材料：硅、石英、玻璃、金屬、陶瓷
儀器尺寸：500mm x 250mm
安裝需求：用于對(duì)準(zhǔn)過程中用來(lái)觀察的顯微鏡、真空
注：可以根據(jù)用戶的需求進(jìn)行定制。
優(yōu)點(diǎn)：
精確和可重建性的PVD涂層構(gòu)建
用于PVD的減震夾盤
易用、對(duì)晶圓無(wú)損夾持機(jī)構(gòu)
由于真空夾持，可以在對(duì)準(zhǔn)的過程簡(jiǎn)單操作
可以用于不同的晶圓尺寸
不需要安裝
低運(yùn)行成本
暫無(wú)數(shù)據(jù)！
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