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牛津Oxford離子束刻蝕機(jī)Ionfab 300 IBE

離子束刻蝕的靈活性、均勻性俱佳且應(yīng)用范圍廣。我們的設(shè)備具有靈活的硬件選項(xiàng)，包括直開(kāi)式、單襯底傳送模式和盒式對(duì)盒式模式。系統(tǒng)配置與實(shí)際應(yīng)用緊密協(xié)調(diào)，以確保獲得速率更快且重復(fù)性更好的工藝結(jié)果。

。多模式功能

。能夠與其它等離子體刻蝕和沉積設(shè)備相集成

。單晶圓傳送模式或集群式晶圓操作

。雙束流配置

。更低的表面薄膜粗糙度

。更佳的批次均勻性和工藝重復(fù)性

。準(zhǔn)確終點(diǎn)監(jiān)測(cè) —— SIMS，發(fā)射光

產(chǎn)品特點(diǎn):

· 質(zhì)量薄膜高 ——超低污染

· 產(chǎn)量高，緊湊的系統(tǒng)體積設(shè)計(jì) ——運(yùn)行成本低

· 已獲得**的高速襯底架（高達(dá)1000RPM）設(shè)計(jì)，并配備了白光光學(xué)監(jiān)視器（WLOM）——更為準(zhǔn)確的實(shí)時(shí)光學(xué)薄膜控制

· 配置靈活 ——適于先進(jìn)的研究應(yīng)用

· 靈活的晶圓操作方式 —— 直開(kāi)式、單晶圓傳送模式或者帶機(jī)械手臂的盒對(duì)盒模式

應(yīng)用:

· 磁阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)器（MRAM）

· 介電薄膜

· III-V族光電子材料刻蝕

· 自旋電子學(xué)

· 金屬電極和軌道

· 超導(dǎo)體

· 激光端面鍍膜

· 高反射（HR）膜

· 防反射（AR）膜

· 環(huán)形激光陀螺反射鏡

· X射線光學(xué)系統(tǒng)

· 紅外（IR）傳感器

· II-VI族材料

· 通信濾波器