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小型臺(tái)式無(wú)掩模光刻系統(tǒng)
小型臺(tái)式無(wú)掩模光刻系統(tǒng)是英國(guó)Durham Magneto Optics公司專為實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)，為微流控、SAW、半導(dǎo)體、自旋電子學(xué)等研究領(lǐng)域提供方便高效的微加工方案。
傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩模板需要由專業(yè)供應(yīng)商提供，但是在研發(fā)環(huán)境中，掩模板的設(shè)計(jì)通常需要經(jīng)常改變。無(wú)掩模光刻技術(shù)通過(guò)以軟件設(shè)計(jì)電子掩模板 的方法，克服了這一問(wèn)題。與通過(guò)物理掩模板進(jìn)行光照的傳統(tǒng)工藝不同，激光直寫(xiě)是通過(guò)電腦控制一系列激光脈沖的開(kāi)關(guān)，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。
Microwriter ML3 是一款多功能激光直寫(xiě)光刻系統(tǒng)，具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm)，無(wú)掩模直寫(xiě)系統(tǒng)的靈活性，還擁有高直寫(xiě)速度，高分辨率的特點(diǎn)。采用集成化設(shè)計(jì)，全自動(dòng)控制，可靠性高，操作簡(jiǎn)便。適用于各種實(shí)驗(yàn)室桌面。
產(chǎn)品特點(diǎn)
Focus Lock自動(dòng)對(duì)焦功能 Focus Lock技術(shù)是利用自動(dòng)對(duì)焦功能對(duì)樣品表面高度進(jìn)行探測(cè)，并通過(guò)Z向調(diào)整和補(bǔ)償，以保證曝光分辨率。 | 光學(xué)輪廓儀 Microwriter ML3 配備光學(xué)輪廓探測(cè)工具，用于勻膠后沉積層，蝕刻層，MEMS等前道結(jié)構(gòu)的形貌探測(cè)與套刻。Z向**精度100 nm，方便快捷。 |
標(biāo)記物自動(dòng)識(shí)別 點(diǎn)擊“Bulls-Eye”按鈕，系統(tǒng)自動(dòng)在顯微鏡圖像中識(shí)別光刻標(biāo)記。標(biāo)記物被識(shí)別后，將自動(dòng)將其移動(dòng)到顯微鏡中心位置。 | 直寫(xiě)前預(yù)檢查 軟件可以實(shí)時(shí)顯微觀測(cè)基體表面，并顯示預(yù)直寫(xiě)圖形位置。通過(guò)實(shí)時(shí)調(diào)整位置、角度，直到設(shè)計(jì)圖形按要求與已有結(jié)構(gòu)重合，保證直寫(xiě)準(zhǔn)確。 |
簡(jiǎn)單的直寫(xiě)軟件 MicroWriter 由一個(gè)簡(jiǎn)單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會(huì)引導(dǎo)使用者進(jìn)行簡(jiǎn)單的布局設(shè)計(jì)、基片對(duì)準(zhǔn)和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運(yùn)行。 | Clewin 掩模圖形設(shè)計(jì)軟件 ? 可以讀取多種圖形設(shè)計(jì)文件（DXF， CIF， GDSII， 等） ? 可以直接讀取TIFF， BMP 等圖片格式 ? 書(shū)寫(xiě)范圍只由基片尺寸決定 |
產(chǎn)品參數(shù)
Microwriter ML3 | 基本型 | 增強(qiáng)型 | 旗艦型 |
**樣品尺寸 | 155×155×7mm | 155×155×7mm | 230×230×15mm |
**直寫(xiě)面積 | 149mm x 149mm | 149mm x 149mm | 195mm x 195mm |
曝光光源 | 405 nm LED 1.5W | 405 nm LED 1.5W | 385 nm LED 適用于SU-8 （365+405nm雙光源可選） |
直寫(xiě)分辨率 | 1μm | 1μm and 5 μm | 0.6μm， 1μm， 2μm， 5μm |
直寫(xiě)速度 | 20mm2/min @ 1μm | 20mm2/min @ 1μm 120mm2/min @ 5μm | 25mm2/min @ 0.6μm 50mm2/min @ 1μm 100mm2/min @ 2μm 180mm2/min @ 5μm |
對(duì)準(zhǔn)顯微鏡鏡頭 | x10 | x3 and x10 自動(dòng)切換 | x3， x5， x10， x20 自動(dòng)切換 |
多層套刻精度 | ±1μm | ±1μm | ±0.5μm |
*小柵格精度 | 200nm | 200nm | 100nm |
樣品臺(tái)*小步長(zhǎng) | 100nm | 100nm | 50nm |
光學(xué)輪廓Z分辨率 | 無(wú)(可升級(jí)) | 300nm | 100nm |
樣品表面自動(dòng)對(duì)焦 | 是 | 是 | 是 |
灰度直寫(xiě)(255級(jí)) | 是 | 是 | 是 |
自動(dòng)晶片檢查工具 | 無(wú)(可升級(jí)) | 有 | 有 |
溫控樣品腔室 | 無(wú)(可升級(jí)) | 無(wú)(可升級(jí)) | 有 |
氣動(dòng)減震光學(xué)平臺(tái) | 無(wú)(可升級(jí)) | 無(wú)(可升級(jí)) | 有 |
應(yīng)用案例
直寫(xiě)分辨率0.1μm
直寫(xiě)分辨率0.6μm
微電極制備
光刻膠上的圖形 | Au電極（SEM） | Au電極（SEM） |
設(shè)計(jì)圖 | 光刻膠上的圖形 | 放大圖的顯微結(jié)構(gòu) |
微結(jié)構(gòu)制備
微流通道制備
暫無(wú)數(shù)據(jù)！
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