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電子束蒸發(fā)技術(shù)

NEE-4000（M）電子束蒸發(fā)系統(tǒng)概述：NANO-MASTER NEE-4000電子束蒸發(fā)系統(tǒng)為雙腔體的配置，其中樣品臺(tái)位于主腔體內(nèi)，二級(jí)腔體則用于安置電子束源。這種在兩個(gè)腔體之間帶有門(mén)閥的配置可以作為預(yù)真空鎖，使得電子束源腔體保持真空的情況下，實(shí)現(xiàn)基片通過(guò)主腔體放入基片到樣平臺(tái)(或夾具)上或從中取出。在需要自動(dòng)裝/卸載基片時(shí)，他可以通過(guò)第三方的預(yù)真空鎖來(lái)實(shí)現(xiàn)，這可以設(shè)置于立方體的左側(cè)。通過(guò)PC計(jì)算機(jī)控制，系統(tǒng)可以提供多電子束源的共蒸發(fā)能力，以及對(duì)組分或組分梯度進(jìn)行編程的能力。

NEE-4000（M）電子束蒸發(fā)系統(tǒng)特點(diǎn)：

• 順序蒸發(fā)或共蒸發(fā)

• 雙電子束源

• 多凹槽電子槍

• 可編程電子束掃描

• 10KW開(kāi)關(guān)電源

• 渦輪分子泵，極限真空5x10-7Torr

• 手動(dòng)上下載片，帶預(yù)真空鎖

• 材料和襯墊更換非常方便

• 晶振式膜厚監(jiān)測(cè)儀

• 通過(guò)LabView軟件實(shí)現(xiàn)PC計(jì)算機(jī)控制

• 菜單驅(qū)動(dòng)，四級(jí)訪問(wèn)密碼保護(hù)

• 完全的安全聯(lián)鎖

NEE-4000（M）電子束蒸發(fā)系統(tǒng)Features：

• Sequential or Co-Evaporation

• Dual E-Beam Source

• Multi-Pocket E-Gun

• Programmable Beam Scan

• 10 KW Switching Power Supply

• Turbomolecular Pump， 10^-7Torr

• Manual Load/Unload w/Load Lock

• Easy Material and Liner Change

• Crystal Thickness Monitor

• PC Controlled with LabVIEW

• Recipe Driven， Password Protected

• Fully Safety Interlocked