看了無掩模曝光機的用戶又看了
留言詢價
虛擬號將在 180 秒后失效
使用微信掃碼撥號
無掩模曝光機
美國IMP（Intelligent Micro Patterning， LLC）公司憑借多年的光刻設(shè)備生產(chǎn)經(jīng)驗和多項無掩模曝光**技術(shù)，已成為無掩模紫外光刻領(lǐng)域的***。
產(chǎn)品優(yōu)點：
微米和亞微米光刻 (*小可達到0.6um線寬)
紫外光直寫曝光，無需掩模，大幅節(jié)約了掩模加工費用
靈活性高，可直接通過電腦設(shè)計光刻圖形，并可根據(jù)設(shè)計要求隨意調(diào)整。
可升級開放性系統(tǒng)設(shè)計。
按照客戶要求可從低端到高端自由配置
使用維護簡單， 設(shè)備耗材價格低。
應(yīng)用范圍廣，目前廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、生物芯片、微機電系統(tǒng)、傳感器、微化學(xué)、光學(xué)等領(lǐng)域。
*小線寬可以達到0.6um量級
暫無數(shù)據(jù)！
無掩模曝光機的工作原理介紹？無掩模曝光機的使用方法？無掩模曝光機多少錢一臺？無掩模曝光機使用的注意事項無掩模曝光機的說明書有嗎？無掩模曝光機的操作規(guī)程有嗎？無掩模曝光機的報價含票含運費嗎？無掩模曝光機有現(xiàn)貨嗎？無掩模曝光機包安裝嗎？
手機版：
工商已核實
