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應用：

◆ASML、Nikon、Canon光刻機等。

技術參數(shù)：

日本Gigaphoton公司是全球頂尖的深紫外光刻機（DUV Scanner）的光源供應商，其研發(fā)并生產的KrF（248nm）準分子激光與ArF（193nm）準分子激光代表了當今半導體業(yè)界的*前沿技術。

主要特點：

◆波長控制技術：通過使用Piezo控制技術使得波長控制響應時間大為縮短；

◆腔體壽命延長：通過改進腔體電極的材料，使得腔體壽命進一步延長；

◆KrF：技術成熟，穩(wěn)定性高（Uptime 達99.9%），耗材壽命長，現(xiàn)已成為各大半導體廠商標準配置；

◆ArF：設計先進，穩(wěn)定性高，CoC（運行成本）與CoD（停機維護成本）都達到了業(yè)界**水平；

◆ArF Immersion：ArF 浸潤式是目前可量產的光刻技術極限。Gigaphoton 是一個被半導體廠商和光刻機廠商認可的光源供應商，也是*早進入量產階段的廠商。其設計先進，具有波長和帶寬穩(wěn)定控制技術、耗材復用及長壽命技術、化學氣體長周期使用等一系列提高性能與穩(wěn)定性并降低運行成本的核心技術。ArF Immersion機臺率先使用了帶寬控制(BCM)技術，能夠穩(wěn)定的控制E95，減少CD Error的出現(xiàn)。