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M82200-10UM型PECVD 鍍膜設備品牌
電子科技產(chǎn)地
湖南樣本
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產(chǎn)品簡介
單臺（5管）產(chǎn)能≥3600片/小時（單管裝片416片/批）；
沉膜均勻性好，膜厚均勻性指標可達：片內≤3％、片間≤3％、批間≤3％；
350～580℃控溫范圍，同時滿足沉積氮化硅膜和退火工藝要求；
采用全套倍?？刂葡到y(tǒng)，自動化程度高（ 提供MES接口、遠程監(jiān)控等功能）；
全自動上下舟系統(tǒng)，一鍵全自動工藝和完善的保護報警功能；
送料機構強度、精度、速度、穩(wěn)定性大幅優(yōu)于同類產(chǎn)品。
基本參數(shù) | 成膜種類 | 氮化硅 |
裝片量與產(chǎn)能 | 416 片/批（156x156mm 方片），單臺5管產(chǎn)能≥3600片/小時； | |
在線時間 | ≥98%； | |
設備功率 | 峰值功率≤280KW，平均功率≤70KW； | |
設備尺寸 | 7400mm（不含真空泵）×2110mm×3530mm（L×W×H）； | |
成膜質量參數(shù) | 成膜均勻性 | 片內≤4％、片間≤3％、批間≤3％（膜厚80～120nm）； |
折射率均勻性 | 片內≤1.5％、片間≤1.5％、批間≤1.5％（折射率2～2.2）； | |
溫控系統(tǒng)參數(shù) | 恒溫區(qū)長度及精度 | ≤±1℃/1600mm （450℃時）； |
溫度控制范圍 | 200～580℃； | |
溫度控制方式 | 五段雙回路溫度控制； | |
真空系統(tǒng)參數(shù) | 壓力控制 | 高精度VAT閥控制，控壓范圍220±40Pa； |
石墨舟傳輸系統(tǒng)參數(shù) | 石墨舟上料方式 | 全自動機械手上下舟，在線式/離線式對接插片機可選； |
控制系統(tǒng)參數(shù) | 推舟機構 | 水平速度1~12000mm/min可調，垂直速度1~150mm/min可調，承重≥40KG； |
控制方式 | 高性能工控計算機全自動控制工藝過程，并對工藝參數(shù)和工藝流程實時監(jiān)控； | |
基本參數(shù) | 在線時間 | ≥98%； |
設備功率 | 峰值功率≤280KW，平均功率≤70KW； | |
設備尺寸 | 7400mm（不含真空泵）×2110mm×3530mm（L×W×H）； |
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